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XBS MBE 沉积速率监控/控制系统


    Hiden XBS三级滤过四极质谱(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System),适于精确的MBE分析,其他气体分析和科学实验使用。

应用:

    · MBE 监测和控制
    · 分子束研究
    · 多束源分析
    · 高性能残余气体研究
    · 脱附 / 除气研究/烘烤周期
    · 容器、过程气体污染物分析


特点:

    · 灵敏度高, 检测范围从100% 至5ppb,质量数范围至510amu
    · 长期稳定性(24h以上,峰高变化小于±0.5%)
    · 交叉离子源,束接收角同轴的横断面呈 ±35°
    · 离子源控制,用于软离子化和表观电势质谱
    · 灵敏度增强用于大质量数的传输,自动质量数范围列表
    · 2mm 束接受孔, 也可为特殊使用者配置
    · 一级过滤处增加射频,抗污染物能力增强
    · 内置UHV 兼容的水冷却罩
    · 分子束研究中,检测极限低至30 ions/s
    · 监测生长速率1Å / min,或更低
    · Windows™ 界面的MASsoft软件通过RS232、RS485 或以太网控制

 










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