HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser)，适用于监测分析残余气体和真空过程。 应用：     · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD     · 真空涂覆/ 等离子刻蚀     · 沉积溅射     · 污染物研究     · 基本压力辨别     · 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析     · 除气/烘烤/泵效能     · 反应室/过程气体污染物 特点：     · 简洁的桌上型，移动推车或控制台架结构     · Direct re-entrant流孔板，差式泵，以达到最适宜的灵敏度     · 连续取样从1mbar至 10-4mbar.     · 高灵敏度（至5ppb），质量数至1000amu     · 软离子化技术，分析复杂有机物，或表观MS研究     · 稳定性好(24h之上，峰高变化小于±0.5%)     · MASsoft软件控制，或由局域网进行多个系统控制     · 气动阀自动控制；出现电力不足或压力过大等不安全状况时          可启用手动隔离装置     · 自动、同时数据取得、分析，实时显示、报警