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HPR30     真空过程气体分析仪


     HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空过程。

应用:

    · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
    · 真空涂覆/ 等离子刻蚀
    · 沉积溅射
    · 污染物研究
    · 基本压力辨别
    · 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析
    · 除气/烘烤/泵效能
    · 反应室/过程气体污染物

特点:

    · 简洁的桌上型,移动推车或控制台架结构
    · Direct re-entrant流孔板,差式泵,以达到最适宜的灵敏度
    · 连续取样从1mbar至 10-4mbar.
    · 高灵敏度(至5ppb),质量数至1000amu
    · 软离子化技术,分析复杂有机物,或表观MS研究
    · 稳定性好(24h之上,峰高变化小于±0.5%)
    · MASsoft软件控制,或由局域网进行多个系统控制
    · 气动阀自动控制;出现电力不足或压力过大等不安全状况时
         可启用手动隔离装置
    · 自动、同时数据取得、分析,实时显示、报警










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